伯東企業（上海）有限公司
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美國 KRi 射頻離子源 RFICP 220 助力光學薄膜技術發展
美國KRi射頻離子源RFICP220助力光學薄膜技術發展上海伯東美國KRi高能量射頻離子源RFICP220應用于光學鍍膜機,增強光學基片反射及透射率,助力光學薄膜技術發展.KRi射頻離子源在光學鍍膜機中的作用設備:自主搭建光學鍍膜機,光學薄膜強激光裝置組成部分之一美國KRi高能射頻離子源:RFICP220作用:通過玻璃鏡片表面清潔Pre-clean和輔助鍍膜IBAD工藝,增強光學基片反射及透射率.從而加強激光束,對薄膜內部進行雜質和缺陷消除,解決光學薄膜內部因存在雜質與缺陷導致的激光損傷問題真空 -
KRi霍爾離子源EH2000望遠鏡鏡片鍍膜應用上海伯東美國KRi大尺寸霍爾離子源EH2000安裝于高性能電子束光學鍍膜機,實現300mm望遠鏡鏡片鍍膜.KRi霍爾離子源EH2000望遠鏡鏡片鍍膜設備:電子束鍍膜機應用:光學鍍膜,300mm望遠鏡鏡片鍍金Au,最外層鍍一層二氧化硅SiO2,做為保護膜,黃金對于紅外波段有著高的反射率,增強鏡面的紅外線反射能力.工藝過程:IBAD輔助鍍膜,通過使用美國KRi霍爾離子源可以實現增強和控制薄膜性能,薄膜致密化的改進,控制薄膜化學計量,提高折射率,降低薄膜應
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Gel-Pak 提供 VCSEL 芯片生產使用的 DGL 膠膜和真空釋放托盤
Gel-Pak提供VCSEL芯片生產使用的DGL膠膜和真空釋放托盤VCSEL(VerticalCavitySurfaceEmittingLaser),中文名為垂直腔面發射激光器,因為使用的是可以電子控制的高頻率光源,光線比較集中,所以可以作為光信號發射器,主要應用于高速率數據通信,車規級高性能激光雷達,以及高性價比消費類芯片.特別對于目前國際主流的800G光模塊,廣泛使用VCSEL芯片,800GSR8光模塊通常用于800G乙太網,數據中心鏈路或800G-800G互連中.上海伯東美國Gel-Pak -
上海伯東代理美國inTEST高低溫沖擊熱流儀兼容各品牌半導體測試機,可正確評估與參數標定芯片開發,器件或模塊研發,品質檢查,第三方認證,失效分析,FAE等幾乎所有流程,高低溫沖擊測試作為一種常見的測試手段,適用于IGBT,MOSFET,三極管,二極管等各類半導體特性測試.inTEST高低溫沖擊熱流儀特性1.變溫速率更快,每秒可快速升溫/降溫15°C2.溫控精度:±1℃3.實時監測待測芯片真實溫度,可隨時調整沖擊氣流溫度4.針對PCB電路板上眾多元器件中的某一單個IC(模塊),可單獨進行高低溫沖擊
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SiC碳化硅功率器件溫度測試應用于AI人工智能,新能源,電動汽車,消費電子等領域的SiC碳化硅功率器件是一種新型的半導體器件,具有高溫,高頻,高壓等優異特性.為確保SiC碳化硅功率器件的性能和質量,需要進行全面的測試和分析.上海伯東美國inTEST高低溫沖擊熱流儀,兼容各類半導體測試儀器,為SiC碳化硅功率器件的溫度測試提供解決方案.SiC碳化硅功率器件的溫度測試主要包含以下幾個方面：?1.靜態測試:靜態測試一般指電壓,電流,功率和溫度等方面的測試.溫度測試用于評估SiC碳化硅器件在通電使用,帶
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紅外截止濾光片(IRCF)是利用精密光學鍍膜技術在光學基片上交替鍍上高低折射率的光學膜,實現可見光區（400nm-630nm）高透,近紅外（700nm-1100nm）截止的光學濾光片,主要應用于可拍照手機攝像頭、電腦內置攝像頭、汽車攝像頭和安防攝像頭等數碼成像領域,用于消除紅外光線對CCD/CMOS成像的影響.通過在成像系統中加入紅外截止濾光片,阻擋該部分干擾成像質量的紅外光,可以使所成影像更加符合人眼的感覺.上海伯東某客戶為精密光學鍍膜產品生產商,經過伯東推薦選用國產鍍膜機加裝美國進口KRi霍
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離子束拋光適用于大面積、異型、特殊材料等加工對象的超高精度非接觸式修形及拋光,精度可達亞納米級,被譽為終拋光.離子束拋光機的最核心部件是可聚焦的高能量離子源.上海伯東某客戶為專業精密光學元器件設備制造商,主要產品為離子束拋光機、磁流變拋光機等,提供超精密光學工藝制造研發服務,是一家超精密光學元器件解決方案提供商.經推薦,該客戶采用上海伯東美國KRi直流電源式考夫曼離子源KDC系列成功應用于光學鍍膜離子束拋光機.KRI離子源用于離子束拋光機:應用方向：非接觸式亞納米離子束表面修形應用領域：半導體/
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上海伯東提供適用于光學鍍膜機的離子源和真空系統光的干涉在薄膜光學中應用廣泛.光學薄膜技術的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜.光學鍍膜是光學器件上的單個或多個材料沉積薄層,實現多樣功能,典型應用例如在鏡片鍍膜中,為了消除光學零件表面的反射損失,提高成像質量,涂鍍一層或多層透明介質膜,稱為增透膜或減反射膜.薄膜沉積在新型特殊性能材料的開發和研究中起到重要作用.光學鍍膜是如何工作的？待鍍膜工件裝入鍍膜室,其內將執行噴濺工藝流程.通常是兩個離子源,一個濺射沉積源,一個預清潔和輔助沉積源.
