伯東企業（上海）有限公司
免費會員
-
KRi 射頻離子源 RFICP 100 應用于國產離子束濺射鍍膜機 IBSD
上海伯東美國KRi射頻離子源應用于國產離子束濺射鍍膜機IBSD上海伯東客戶某高校使用國產品牌離子束濺射鍍膜機用于金屬薄膜制備,工藝過程中,國產離子源鎢絲僅使用18個小時就會燒斷,必須中斷鍍膜工藝更換鎢絲,無法滿足長時間離子束濺射鍍膜的工藝要求,導致薄膜質量低的情況.客戶需要離子源的穩定工作時間不低于48個小時,經過伯東推薦最終改用美國KRi射頻離子源RFICP100替換原有的國產離子源,單次工藝時間可以達到數百小時,符合客戶長時間鍍膜的工藝要求,維持高穩定離子束濺射工藝獲得高品質薄膜.上海伯東真 -
美國 inTEST ATS-535 熱流儀半導體芯片高低溫測試應用
上海伯東美國inTESTATS-535集成空壓機的高低溫沖擊熱流儀,高低溫測試范圍-60至+225°C,為半導體功率器件(MOSFET,IGBT,SIC,GaN,車規級芯片…),功率模塊,功率集成電路,智能傳感器等芯片研發提供高低溫測試解決方案.inTESTATS-535高低溫沖擊熱流儀優勢集成空壓機:特別適用于對環境噪音有嚴格要求的寫字樓園區或研發環境,省去重新評估空壓系統及配管的時間及人力成本,解決了因為環境受限無法提供壓縮氣體的芯片高低溫測試難題.移動式設計:機動性更強溫度范圍廣:-60至 -
KRi考夫曼離子源KDC160應用于硅片刻蝕清潔上海伯東美國KRi大尺寸考夫曼離子源KDC160適用于2-4英寸的硅片刻蝕和清潔應用,KRiKDC160是直流柵網離子源,高輸出離子束電流超過1000mA.高功率光束無需對離子源進行水冷卻即可實現.KDC160配備了雙燈絲.在標準配置下,KDC160典型離子能量范圍為100至1200eV,離子電流可超過800mA.KRi考夫曼離子源KDC160應用于硅片刻蝕系統:批量處理,行星載臺4x10片,刻蝕均勻性上海伯東美國KRi考夫曼離子源KDC適用于標準
-
KRI離子源應用于超高真空磁控濺鍍設備UHVSputter上海伯東代理美國KRI離子源應用于超高真空磁控濺鍍設備UHVSputter實現高質量薄膜!超高真空環境的特征為其真空壓力低于10-8至10-12托,且在化學,物理和工程領域十分常見.超高真空環境對于科學研究非常重要,因實驗通常要求在整個實驗的過程中,表面應保持無污染狀態并可使用較低能量的電子和離子的實驗技術使用,而不會受到氣相散射的干擾并可以在這樣超高真空環境下使用濺鍍系統以提供高質量的薄膜.針對超高真空和高溫加熱設計的基板旋轉鍍膜機構,
-
考夫曼離子源創始人Dr.HaroldR.KaufmanKaufman博士1926年在美國出生,1951年加入美國NASA路易斯研究中心,60年考夫曼博士發明了電子轟擊離子推進器并以他的名字命名(考夫曼推進器).1969年美國航空航天學會AIAA授予他JamesH.Wyld推進獎,1970年考夫曼推進器贏得了IR100(前身研發100獎),1971年考夫曼博士獲得美國宇航局杰出服務獎.2016年,美國NASA宇航局將HaroldKaufman博士列入格倫研究中心名人堂1978年Kaufman&Ro
-
KRI離子源應用于磁控共濺鍍設備Co-sputter上海伯東代理美國KRI考夫曼離子源應用于磁控共濺鍍設備Co-sputter實現高質量的復合式薄膜!磁控共濺鍍主要用于復合金屬或復合材料,通過分別優化每一支磁控濺鍍槍(靶材)的功率來控制薄膜質量,其薄膜厚度取決于濺鍍時間.特殊系統設計的磁控共濺鍍腔提供了精準控制多個磁控濺鍍的制程條件,為客戶提供更好質量的復合式薄膜.濺鍍腔中,有單片和多片式的loadingchamber,可節省其制程腔體的抽氣時間,進而節省整體實驗時間.------------－
-
KRi射頻離子源應用于紅外截止濾光片IRCF工藝上海伯東某客戶為精密光學鍍膜產品生產商,生產過程中需在白玻璃上進行鍍膜.由于國產鍍膜設備在射頻和光控性能方面的限制,鍍制過程易出現溫漂現象,材料折射率不高,品質無法保證;且工藝上需要加熱,這大大增加了鍍膜時間.經過伯東推薦選用國產鍍膜機加裝美國進口KRi射頻離子源進行輔助鍍膜,保證工藝效果,提高生產效率.紅外截止濾光片是一種用于過濾紅外波段的濾鏡,IRCF利用精密光學鍍膜技術在白玻璃,藍玻璃或樹脂片等光學基片上交替鍍上高低折射率的光學膜,其可通過實
-
KRi離子源應用于藍玻璃AR工藝配備800萬或以上像素的手機都基本內嵌藍玻璃濾光片的攝像頭.藍玻璃濾光片通過ARCoating的鍍膜,可以增加透光率和反射紅外光.光線在透過不同介質時會產生折射和反射,當加上單面ARCoating后,濾光片會提升3～5%的透光率,讓圖像更清晰且讓濾光片不容易起霧.上海伯東協助某從事光學玻璃鍍膜機生產的客戶,在光學鏡頭材料藍玻璃AR工藝方面實現技術突破！經過推薦客戶采用光學鍍膜機加裝美國進口KRi大尺寸射頻離子源RFICP380,在離子清洗,輔助沉積時,提高藍玻璃的
