當(dāng)前位置：青島佳鼎分析儀器有限公司>>曝光顯影設(shè)備>>TEL CLEAN TRACK ACT8（ACT12）涂膠顯影機(jī)

TEL CLEAN TRACK ACT8（ACT12）涂膠顯影機(jī)

返回列表頁

參考價(jià)

面議

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號

品牌

廠商性質(zhì)其他

所在地

在線詢價(jià) 收藏產(chǎn)品查看聯(lián)系電話

聯(lián)系方式：查看聯(lián)系方式

更新時(shí)間：2023-06-18 13:42:51瀏覽次數(shù)：3134次

聯(lián)系我時(shí)，請告知來自智能制造網(wǎng)

產(chǎn)品分類 品牌分類

暫無信息

青島佳鼎分析儀器有限公司

經(jīng)營模式：其他

商鋪產(chǎn)品：20條

所在地區(qū)：

詢價(jià) 給他留言

產(chǎn)品簡介

日本東京電子公司生產(chǎn)的TEL牌涂膠顯影機(jī)CLEANTRACKACT8/12，是有著良好性能和可靠性的半導(dǎo)體微電子生產(chǎn)設(shè)備,是可對應(yīng)200/300mm硅片生產(chǎn)的涂膠顯影設(shè)備

詳細(xì)介紹

日本東京電子公司生產(chǎn)的TEL牌涂膠顯影機(jī)CLEANTRACK ACT8/12，是有著良好性能和可靠性的半導(dǎo)體微電子生產(chǎn)設(shè)備,是可對應(yīng)200/300mm硅片生產(chǎn)的涂膠顯影設(shè)備。

半導(dǎo)體制造設(shè)備涂膠顯影機(jī),應(yīng)用于半導(dǎo)體制造的光刻工藝中，是感光劑(photoresist)的涂布(coat)和顯影(develop)的設(shè)備。在該設(shè)備的涂膠（coat）單元中，硅片上面的感光劑首先被涂布，后被送到曝光設(shè)備里，通過光刻機(jī)將MASK上面圖形投影到硅片上。

接下來,硅片回到涂膠顯影機(jī)的顯影單元中，通過對硅片表面感光膠噴涂顯影液，使被感光部分的感光劑融化，這樣wafer上就出現(xiàn)了凹凸的圖形。經(jīng)過各種工序重復(fù),最終就形成了細(xì)微而復(fù)雜的集成電路。