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寧波潤華全芯微電子設備有限公司
設備配置2C2D、4C、4D設備產能180WPH襯底材質Si、Glass、Sapphire、GaAs、InP、GaN、SiC、LT、LN等線寬0
設備配置 | 2C2D、4C、4D |
設備產能 | 180WPH |
襯底材質 | Si、Glass、Sapphire、GaAs、InP、GaN、SiC、LT、LN等 |
線寬 | ≥0.35um |
適用工藝 | G-line、i-line、PI |
應用領域 | MEMS、功率器件、射頻集成、光通訊、LED、科研等 |
技術特征 | ?設備采用高速機械手、產能高,穩定性好; ?配置有RRC功能,光刻膠4寸用量可控制在0.6ml; ?設備故障、生產工藝參數等記錄等可長期保存備查; ?光刻膠采用精密計量泵供應,精度高,供液穩定,出膠量設定方便; ?可做兩種尺寸兼容,不需要更換零件; ?可選配光刻膠顯影液溫控, HMDS等單元部件。 |
設備尺寸 | 1650*1450*2040mm(W*D*H) |
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