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近日美國(guó)商務(wù)部工業(yè)安全局(BIS)宣布將六項(xiàng)新興技術(shù)添加到《出口管理?xiàng)l例》(EAR)的商務(wù)部管制清單(CCL)中。
據(jù)了解，目前受到出口管制的新興技術(shù)總數(shù)已經(jīng)達(dá)到了37項(xiàng)。
美國(guó)商務(wù)部在發(fā)布的公告中寫道：“此舉是為了支持關(guān)鍵及新興技術(shù)這一國(guó)家戰(zhàn)略.”
“關(guān)鍵技術(shù)和新興技術(shù)國(guó)家戰(zhàn)略是保護(hù)美國(guó)國(guó)家安全，確保美國(guó)在軍事、情報(bào)和經(jīng)濟(jì)事務(wù)中保持技術(shù)地位的重要戰(zhàn)略部署。”美國(guó)商務(wù)部部長(zhǎng)Wilbur Ross說道，并表示“美國(guó)商務(wù)部已經(jīng)對(duì)30多種新興技術(shù)的出口實(shí)施了管控，我們將繼續(xù)評(píng)估和確定未來還有哪些技術(shù)需要管控。”
票選“對(duì)美國(guó)國(guó)家安全起到至關(guān)重要的作用”的6大技術(shù)出爐
公告指出。新的商業(yè)出口管制是依照2019年12月全體大會(huì)上達(dá)成的協(xié)議——《常規(guī)軍備和兩用物品及技術(shù)出口管制瓦森納協(xié)議》實(shí)施的。制定和實(shí)施對(duì)新興技術(shù)的多邊控制符合《2018年出口控制改革法案》(ECRA)的要求后，終確定管控下列幾項(xiàng)新興和基礎(chǔ)性技術(shù)的出口將對(duì)美國(guó)國(guó)家安全起到至關(guān)重要的作用。
本次被增列商業(yè)管制清單的六項(xiàng)新興技術(shù)為：
- 混合增材制造/計(jì)算機(jī)數(shù)控工具；
- 特定的計(jì)算光刻軟件；
- 用于為5nm生產(chǎn)精加工晶圓的某些技術(shù)；
- 有限的數(shù)字取證分析工具；
- 用于監(jiān)測(cè)電信服務(wù)通信的某些軟件
- 亞軌道航天器
美國(guó)實(shí)施出口管制的六大技術(shù)，都與芯片制造中重要的設(shè)備光刻機(jī)息息相關(guān)，尤其是當(dāng)下5nm芯片已成為芯片時(shí)代的主流產(chǎn)品，EUV光刻機(jī)在半導(dǎo)體制程的重要意義可想而知。
“用于制造極紫外線掩模的計(jì)算光刻技術(shù)軟件”涵蓋EUV光刻所需的特定軟件，包括與三維(3D)效應(yīng)、掩模陰影效應(yīng)、光照方向效應(yīng)、遠(yuǎn)距離眩光效應(yīng)、鄰近效應(yīng)、抗蝕劑中的隨機(jī)性效應(yīng)以及源掩模優(yōu)化有關(guān)的軟件，這類軟件是在晶圓上做出經(jīng)過優(yōu)化的光刻膠圖案必需的軟件；而“用于為5nm生產(chǎn)精加工芯片的技術(shù)”旨在應(yīng)用于面向5nm生產(chǎn)的晶圓，包括對(duì)直徑300 mm的硅晶圓進(jìn)行切片、打磨和拋光以達(dá)到某些標(biāo)準(zhǔn)所需要的技術(shù)，以及盡量減小平坦度(或SFQR)和表面缺陷的技術(shù)以及局部光散射體(LLS)。以上兩類技術(shù)都受到國(guó)家安全和反恐管制的約束。
目前全世界能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的企業(yè)只有荷蘭ASML公司，而ASML大的兩大股東資本集團(tuán)(MSCI)和貝萊德集團(tuán)(BlackRock,Inc.)都是美國(guó)公司，其用于打造EUV光刻機(jī)的高精技術(shù)也有不少為美國(guó)所持有。
美國(guó)商務(wù)部此舉相當(dāng)于直接封鎖了芯片的制造技術(shù)。從目前來看，中國(guó)作為美國(guó)芯片產(chǎn)品大的采購(gòu)國(guó)之一，受出口管制影響是巨大的。
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