上海新陽半導體收到ASML-1400光刻機將用于研發193nm ArF光刻膠

2021-03-09 16:42:31來源：TechWeb 關鍵詞：半導體光刻機閱讀量：21946

導讀：經各方積極協商、運作，ASML-1400光刻機設備于今日已進入合作方北方集成電路技術創新中心(北京)有限公司場地，后續將進行安裝調試等相關工作。

　　3月9日消息，近日上海新陽半導體材料股份有限公司發布公告，披露了關于購買ASML-1400光刻機的新進展。

　　上海新陽半導體材料股份有限公司(以下簡稱“公司”)自立項開發193nm ArF干法光刻膠的研發及產業化項目以來，安排購買了ASML-1400光刻機等核心設備，并于2020年12月14日在《關于公司申請向特定對象發行股票的審核問詢函的回復》中披露，該光刻機將于2020年底前運抵國內。后由于公司與光刻機供應商、北方集成電路技術創新中心(北京)有限公司(以下簡稱“合作方”)溝通協調設備運輸與安裝等細節，致使設備沒能在規定時間內運達，但與合作方就具體合作細節簽署了《合作框架協議》，并發布了《關于ASML-1400光刻機進展暨簽訂<合作框架協議>的公告》，預計該光刻機將于2021年3月底前進入合作方現場，詳見公司于2021年1月5日發布的相關公告。

　　現經各方積極協商、運作，該光刻機設備于今日已進入合作方北方集成電路技術創新中心(北京)有限公司場地，后續將進行安裝調試等相關工作。

　　(原標題：上海新陽半導體收到ASML-1400光刻機將用于研發193nm ArF光刻膠)

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